国产光刻机启示录：中国芯片厂商要吸取日本半导体教训

发展国产芯片是14亿的中国老百姓的共同心愿，为了制造出拥有自主技术的“中国芯”，很多卓越的工程师在日夜奋战，制造国产芯片只是中国芯片发展的重要一步，我们更要掌握很多半导体核心装备的国产化，比如高端芯片光刻机。在这里，想提一个醒：中国光刻机厂商要重视吸取日本经验教训。

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要说当前高端光刻机的霸主是谁？很多人都会指向来自荷兰的ASML，全世界能够制造出7nm制程的EUV光刻机厂商仅此一家，国内芯片制造厂商中芯国际就耗资了一整年利润向ASML订购了一台高端光刻机。虽然现实残酷，但也警醒了我们。

万丈高楼平地起，ASML也不是一开始就这么“牛x”，起初他只是飞利浦公司的一个部门而已，那个时候全球的光刻机霸主是日本尼康、佳能。光刻机，顾名思义是要用到光学技术制造晶圆，日本有很多世界知名的光学品牌，在光刻机技术研究方面可谓是领先全球，20年前的intel，三星，台积电的工程师们基本上都是使用尼康、佳能的光刻机，可日本光刻机为什么现在没落了呢？

这里面就不得不提到日本的“终身制劳动”，半导体是高精尖科技，“一步落后，步步落后”，如果老的科研人员占着位置，不提携年轻科学家，那无异于扼杀技术创新。荷兰ASML能够取代日本尼康成为全球光刻机霸主，其中就有一种敢于冒险的精神。

2007年，ASML和台积电合谋研发一种浸没式光刻机，而尼康和佳能觉得干式光刻机卖得很好，没必要去重金投入研发那种不确定的浸没式光刻技术，而且投资研发一种新型技术会带来不确定，万一做砸了呢？结果，ASML在浸没式光刻机领域累计 1万个以上专利。等到尼康、佳能想做的时候已经失去了机会，从此一蹶不振。

直到今天，ASML依然不放松前沿技术研发，研发人员比重很大，有鉴于此，国产光刻机要坚持技术研发导向，产品更出色，市场终会向你走来，这就是半导体产业的游戏规则，台积电率先完成7nm工艺，于是迅速拿下苹果A12、华为麒麟980、高通855的订单，反观三星却是“一步慢，步步慢”。