发展国产芯片一直是14亿中华儿女的共同梦想,芯片被誉为现代工业的心脏,各行各业都在应用着它。然而,发展国产芯片比“唐僧西天取经”都要艰难,欧美日韩等半导体厂商企图遏制中国企业发展。伟大的背后是苦难,虽然我们国产芯片产业比欧美发达国家晚了几十年,但在最近几年,我国在很多核心技术都实现了突破,中国科研人员闯过这四道技术难关,国产光刻机有望打败荷兰ASML。
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我们知道,光刻机是芯片制造的关键设备,台积电、三星、英特尔这三家公司能够称霸全球芯片市场,很大程度上依赖高端光刻机这个“特种设备”,他们三家还是ASML公司的大股东,拥有产品优先使用权。如果我们在国产光刻机这个领域挫败了ASML,超越台积电、三星、英特尔就只剩下时间问题了。
目前,我们已经连续攻克了芯片光刻机四道技术封锁线,跟ASML的技术差距在快速缩小。
第一道难关是光学曝光系统。光刻机,顾名思义,是要应用到精密的光学技术,它由于数十块非常小的镜片串联而成,精度在10纳米以下,ASML所使用的7nm芯片光刻机就是采用德国蔡司独家生存的镜头。众所周知,日本相机产业非常发达,根源就在于日本把光学技术研究透了。如今,我国的长春光机所和国防科技大学组成联合攻关团队,全面掌握了更高水平的光刻机光学曝光系统,精度达到国际中端水平。
第二道难关是光刻机激光光源。为什么我们国产光刻机长期以来不能达到高端水平的原因之一就在于光源技术,它的研制技术难度极大,全世界只有日本一家公司可以独立生产光源,其余的都被ASML收购了。面对这座芯片领域的“珠峰”,我国科研人员用了9年时间,终于掌握了这项技术。
第三道难关是光刻机工作台。光刻机是一个很笨重的特种设备,里面的复杂程度难以想象,日本光刻机厂商就放出狠话:就算你们中国人能够掌握光学技术,但双工件台就恐怕拿不下了。然而事实却狠狠地打脸了那些外国厂商,清华大学牵头众多科研机构,已经造出来了。成为全球第二个掌握这个核心技术的国家。
第四道关是光刻机浸液系统。这是芯片制成的关键,我国的浙江大学已经制作出这个样机,我国已经超越了尼康和佳能,我国成为全球第二大光刻机制造大国。
可以说,在光刻机领域,国产芯片光刻机的对手只剩下荷兰ASML公司一家。
(来源:百度 百家)