据韩联社5月13日报道,韩国政府13日发表了将半导体企业设施投资税额的扣除率最高上调20%、研发(R&D)投资上调至50%的“K-半导体战略”。政府首先决定,在对企业的税额减免中,新设“核心战略技术(暂称)跑道”,对属于该领域的企业研发(R&D)投资,给予比现行制度更大的税制优惠。
韩国政府13日在三星电子平泽工厂举行“K—半导体战略报告大会”,公布了旨在实现综合半导体强国目标的战略规划。
具体来看,韩国政府将携手相关企业,截至2030年在国内构建全球最大规模的半导体产业供应链——“K—半导体产业带”,建立起集半导体生产、原材料、零部件、设备和尖端设备、设计等为一体的高效产业集群。 作为此次战略规划的核心内容,该产业供应链西部北起依次有板桥、器兴、华城、平泽、温阳等城市纵向相连,东部覆盖利川、龙仁、清州,呈“K”字形。
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根据现行的《税收特例限制法》,政府将从税金中减免企业研究、人力开发费或事业设施投资费用乘一定比率(扣除率)得出的金额。对于需要维持全球竞争优势的核心技术,将大幅提高扣除率,这是此次战略的重点。
例如,如果是普通设施投资,最高扣除率只有10%(以中小企业为准),但如果是对核心战略技术相关设施投资,扣除率将上升到16%。对超过前三年平均投资额的金额,还将提供4%的追加减免优惠。如果一家中小企业首次向核心技术设施投资100亿韩元,那么投资额的16%(16亿韩元)和投资额增加部分的4%(4亿韩元)加起来,该企业共可得到20亿韩元的税额减免。大企业扣除率为6%,低于中小企业,加上对投资增加部分4%的追加扣除优惠,最高可以享受10%的税额减免。
以韩国代表性半导体企业三星电子为例。此前,三星电子去年支出了约33万亿韩元的半导体设备投资金额,并表示到2030年为止将在系统半导体领域投资171万亿韩元。假设三星电子在明年一年内追加投入17万亿韩元规模的资金,共投资50万亿韩元用于半导体设备,按以前的标准(新增长源泉技术)税额减免额为2.01万亿韩元(占总投资额50万亿韩元3%+追加投资额17万亿韩元3%)。但如果半导体被选定为核心战略技术,税金减免额将增加到总投资额的6%(3万亿韩元)和追加投资额的4%(6800亿韩元),合计为3.68万亿韩元。根据设施投资认定范围,实际扣除金额会有所不同。
此外,对核心战略技术设施投资、商用化前的量产设施也将包括在投资范围内。其宗旨是,在实现商用化之前,适用税制优惠,提高支援的实效性。研发(R&D)投资也同样提供包括追加扣除优惠在内的最高50%的税额减免优惠。
这些优惠政策将暂时适用到2024年,从今年下半年开始迅速适用。